Cinema 4D의 새로운 기능

이 새로운 절차적 스캐터 솔루션은 타협 없이 전체 세계를 채울 수 있게 해줍니다. 스캐터 시스템은 원치 않는 중복을 피하면서 애셋을 지능적으로 분배하여, 믿을 만한 숲, 식생, 잔해, 대규모 환경을 쉽게 만들 수 있게 합니다. 흩어진 모든 객체는 Cinema 4D의 MoGraph 시스템의 일부로 남아 있으며, 익숙한 이펙터와 필드를 완벽히 지원하여 장면 전체를 형성, 애니메이션, 영향 부여하고 생명을 불어넣습니다.

이 2차 효과 액체 시뮬레이션 시스템은 액체의 움직임에 따라 자동으로 거품, 분사, 기포를 생성합니다. 복잡한 2차 시뮬레이션 설정 없이도 시뮬레이션을 한 단계 끌어올려 더 믿을 만한 물보라, 부어지기, 소용돌이, 폭포를 만들어 보세요. 무엇보다도 리퀴드 FX 입자는 성능을 저해하지 않으면서 디테일을 더해줍니다.

Cinema 4D와 Redshift는 통합된 창작 환경으로 계속 진화하고 있습니다: 아티스트의 일상 작업을 지원하기 위해 Redshift는 향상된 성능을 제공하고, 씬 변경에 더 빠르게 대응하며, 일반적인 작업 흐름을 단순화합니다. 더 빠른 뷰포트 피드백 덕분에 더 빠르게 반복하고 더 자신감 있게 창의적인 결정을 내릴 수 있습니다. Cinema 4D 재질 태그에서 직접 삼면면 매핑, 육수 타일링 및 기타 고급 Redshift 재질 설정을 적용하세요. 돔 라이트의 통합 탐색 탭으로 장면에 적합한 HDRI를 찾으세요. 개선된 OCIO 워크플로우로 재질 생성을 간소화하고, 버텍스 맵과 버텍스 색상 태그를 재질에 직접 드래그하세요.

어떤 소스에서든, 어떤 플랫폼에서든 CAD 파일을 가져올 수 있습니다: Cinema 4D 2027.0은 3MF / AMF, 3D Experience, CREO, IFC, Inventor, NX, Solid Edge 등 추가 CAD 포맷을 지원하며 업계 선도적인 CAD 워크플로우를 확장합니다. 또한, Windows ARM 기기에서도 CAD 가져오기가 지원됩니다. 이 업데이트로 엔지니어링 데이터 관리에 드는 시간을 줄이고 매력적인 시각화 제작에 더 많은 시간을 쓸 수 있습니다.

직접 프로시저 도구를 구축하기: 이번 릴리스는 새로운 노드 필드와 노드 이펙터 객체를 추가하여 씬 노드의 기능을 확장하여 노드 그래프를 사용해 맞춤형 필드와 이펙터를 만들 수 있게 합니다. 스크립팅 없이 완전히 시각적인 워크플로우를 즐기세요.

이 새로운 절차적 시스템은 어떤 메쉬에서도 설득력 있는 모피, 섬유, 직조 직물, 니트 소재를 효과적으로 만들 수 있는 강력한 방식을 도입합니다. 전용 지오메트리 애셋을 통해서가 아니라 렌더링 시점에 표면 디테일을 생성하여, 아티스트가 무거운 특수 애셋 파이프라인을 관리하지 않고도 재료 변형을 빠르게 탐색할 수 있게 합니다. 모션 디자이너와 제품 시각화 또는 섬유, 가구, 신발을 다루는 산업 디자인 아티스트를 위해 만들어졌으며, 모션 블러, 인스턴싱, UV 제어에 대한 제작 준비가 완료된 지원을 제공합니다.

Redshift 라이브는 빠른 룩 개발과 장면 평가를 위한 강력한 환경으로 계속 진화하고 있습니다. 이제 셰이더를 더 빠르게 컴파일하고 굴절, 투명 그림자, 광역 광 확산, 레이 트레이싱 심도 지원도 추가했습니다. 아티스트들은 전체 렌더링을 기다리는 대신, 더 현실적인 미리보기 피드백을 더 일찍 받을 수 있습니다. 그 결과 실시간으로 창의적 결정을 평가할 수 있는 더 강력한 룩 개발 환경이 탄생했습니다.

Cinema 4D는 이제 내장된 MCP(Model Context Protocol)를 지원하는데, 이는 사용자가 스위치를 켜서 호환되는 Al 어시스턴트가 Cinema 4D의 반복적이고 절차적이며 반복적인 작업을 위한 도구를 조작할 수 있도록 하며, 모든 창의적 결정은 당신의 몫으로 남게 됩니다.

이 새로운 셰이더는 어떤 재질에도 사실적인 표면 마모, 브러싱 처리된 디테일, 미묘한 흠집 등의 스크래치 패턴을 생성하는 데 완벽합니다. 제어 가능한 프로시저 방식의 스크래치 패턴은 모든 에셋에 대해 별도의 스크래치 텍스처를 만들거나 소싱하는 대신, 외관에 가장 중요한 재질 채널에 적용할 수 있습니다. 이 셰이더를 사용하여 브러싱 처리된 금속이나 플라스틱 표면을 사실적으로 표현하거나, 제품 시각화에 자연스러운 느낌을 더하고 지나치게 완벽해 보이는 표면을 방지하세요.

고고도 구름은 환경 및 조명 아티스트에게 Redshift에서 직접 규모, 깊이 및 분위기를 갖춘 하늘을 구성할 수 있는 더욱 유연한 방법을 제공합니다. 특히 야외 시각화에 유용한 이 구름 형태는 장면 위에 자연스럽게 자리 잡고 있어 저고도 적운만 사용할 수 있었던 기존 설정을 보완합니다. 밀도, 고도, 크기, 바람, 색상, 비등방성 및 조명을 제어하여 아티스트는 구름층의 구조와 분위기를 모두 자유롭게 표현할 수 있습니다.

새로운 파티클 속성 관리자는 파티클 데이터 사용을 위한 향상된 워크플로우를 제공합니다. 시뮬레이션 속성을 즉시 확인하고 편집할 수 있어 아티스트는 어떤 속성이 있는지 쉽게 파악하고 설정을 그에 맞게 조정할 수 있습니다. 더 이상 시뮬레이션 설정에서 헤맬 필요가 없습니다. 파티클 속성 관리자를 인터페이스의 아무 곳에나 도킹하면 모든 파티클 속성을 한눈에 보고 빠르게 관리 및 편집할 수 있습니다.

MoGraph 클로너에 새롭게 추가된 세 가지 고급 배치 기능을 통해 이전에는 어렵거나 불가능했던 정밀하고 반응성 있는 클론 배치가 가능해졌습니다. 복잡한 리깅 없이 다양한 창의적인 가능성을 활용하여 모서리에 클론을 배치하거나, ​​폴리곤 외곽선을 따라 클론을 배치하거나, ​​UV를 기반으로 오브젝트 표면에 클론을 배치하고 애니메이션을 적용할 수 있습니다.

Cinema 4D에서 전문가 수준의 UV 워크플로우를 구현하기 위해 UV 에디터를 새롭게 디자인했습니다. 이제 아티스트는 다른 애플리케이션을 사용하지 않고도 첫 번째 이음매부터 최종 패킹까지 모든 작업을 처리할 수 있습니다. 게임, VFX 및 제품 시각화 아티스트는 Cinema 4D 내에서 이음매 편집, 스마트 언래핑, 제로 오버랩 패킹, 텍셀 밀도 및 UDIM 지원 기능을 활용할 수 있습니다. 기존 프로젝트는 마이그레이션 없이 원활하게 열리므로 워크플로우를 중단 없이 이어갈 수 있습니다.

이 매끄러운 텍스처 방식은 콘크리트, 석고, 직물과 같은 넓고 평평한 표면에서의 부자연스러운 반복을 빠르고 쉽게 완화하여 시각화 작업 흐름을 간소화합니다. 헥스 타일링은 클릭 몇 번만으로 쉽게 적용할 수 있습니다. 마스킹이 필요 없어, 복잡한 준비 작업 없이 넓은 표면에서 더 많은 유기 재질을 사용할 수 있습니다.

아티스트 친화적인 패브릭 브러시는 빠르고 직관적인 제어로 뷰포트에서 직접 부드러운 재질을 형태화할 수 있게 해줍니다. 복잡한 리그와 씨름하지 않고도 부드러운 오브젝트를 즉시 드레이핑하고 접으며 조각할 수 있습니다. 커튼을 배치하거나, 의류 주름을 조정하거나, 패키지를 형태화할 때 지오메트리를 브러시로 배치하고 시뮬레이션이 사실적인 디테일을 채우도록 하세요.

Redshift의 새로운 밤하늘 옵션을 사용하면 전 세계 어느 위치에서든 하루 중 어떤 시간대에도 완전한 하늘 시스템으로 야간 장면의 배경을 빠르게 채울 수 있습니다. 달빛이 비치는 도시나 은하수가 선명하게 보이는 시골 사막과 같이 원하는 조건에 맞춰 밤하늘을 설정하세요.

타겟 이펙터의 새로운 루프 옵션으로 루프를 생동감 있게 구현하세요. 방사형 배열이든 닫힌 스플라인 위의 클론이든, 첫 번째와 마지막 클론이 서로를 타겟으로 하여 완벽하게 매끄러운 원형 또는 루프 모션 그래픽 효과를 구현합니다.

벤드 디포머의 새로운 대칭 옵션은 단일 디포머에서 미러링 굽힘을 가능하게 합니다. 오브젝트 중심을 기준으로 대칭적으로 구부리는 기능은 커뮤니티에서 자주 요청되는 기능이었는데, 기존에는 여러 디포머, 파라미터의 수작업 동기화, 또는 복잡한 리깅이 필요했기 때문입니다. 새로운 벤드 디포머는 대칭적인 굽힘 설정을 단순화하고 창의적 자유를 극대화함으로써 이 문제를 해결합니다.